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結(jié)合飛納臺式掃描電鏡干粉制劑顆粒檢測系統(tǒng)，以快速、簡便的方式實現(xiàn)顆粒的可視化分析，代表著微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步。快速、易用和超清晰成像質(zhì)量的飛納臺式掃描電鏡，加上顆粒統(tǒng)計分析測量系統(tǒng)的顆粒圖像分析功能，為用戶檢驗、分析各種各樣的顆粒、粉末樣品創(chuàng)造了一個強大工具。

高性價比掃描電鏡 Phenom Pure 裝配的基本組件可以滿足高分辨率成像的要求，這些基本組件不僅可以保證電鏡高質(zhì)量的成像，而且能夠?qū)崿F(xiàn)快速裝載樣品，短時間內(nèi)成像。精確的自動聚焦和電子束自動對中使飛納電鏡系列成為市場上受用戶歡迎、操作簡單的智能型掃描電鏡。對于有高分辨率成像需求的用戶來說， Phenom Pure 可以提供經(jīng)濟(jì)、高效的解決方案。

加快材料研究的突破性進(jìn)展，您的實驗室需要一臺具備快速準(zhǔn)確分析大量材料微觀結(jié)構(gòu)的掃描電鏡。第六代 Phenom ProX 飛納臺式掃描電鏡能譜一體機(jī)引入了全新一代操作系統(tǒng)，通過改進(jìn)光路設(shè)計，將分辨率提升到新高度。能譜操作界面與能譜算法進(jìn)一步升級，易于操作，元素分析更快速。

Phenom Particle Metric顆粒測試以較快、較簡便的方式實現(xiàn)顆粒的可視化分析，是微觀顆粒分析技術(shù)的一大進(jìn)步。快速、易用和超清晰圖像質(zhì)量的Phenom飛納掃描電鏡，加上Particle Metric顆粒系統(tǒng)的顆粒圖像分析功能，為用戶提供了分析顆粒和粉末試樣的強大工具。

荷蘭飛納公司推出第二代肖特基場發(fā)射電子源臺式掃描電鏡 Phenom Pharos G2, 集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體。高亮度肖特基場發(fā)射電子源，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像，且低電壓性能優(yōu)異。飛納臺式場發(fā)射掃描電鏡 Phenom Pharos G2 低電壓成像優(yōu)勢明顯，可減輕電子束對樣品的損傷和穿透，更好地觀測絕緣和電子束敏感的樣品，可以還原樣品真實形貌。