場發射電鏡是一種用于材料科學領域的儀器已廣泛應用于材料科學(金屬材料、非金屬材料、納米材料)、冶金、電子、半導體、食品、生命科學等科研和工程領域。
場發射電鏡采用了肖特基場發射電子(SFE)源。其特點是:探針電流大,容易進行BSE、EDS、WDS、EBSD、CL等分析。電子束噪聲較小,<1%。束流穩定度高,優于0.2%/h。適宜于長時間的各種準確分析。對環境、樣品要求較低。使用方便、維護簡單,且工作穩定。可提供高得多的探測電流來滿足使用需要:能量發散于冷場發射(CFE)源類似,但發射電流卻高出50多倍;而較大的虛擬源尺寸,可以將振動的敏感性大幅度降低。高亮度的肖特基場發射(SFE)源結合的GEMINI鏡筒提供了用于高分辨率的小束斑尺寸,同時具有高的襯度和高的束流。
場發射電鏡加速電壓0.1-30kV,且在0.1kV的加速電壓下仍有較高的分辨率。隨著電子束能量的降低,像差也隨著降低。從而在降至100V時,也有水平的分辨率,在30KV時具有高分辨率。高的電子束能量再加上電子束路徑上不存在交叉,降低了電子束電子之間的靜電庫倫作用,避免了由此而引起的亮度降低以及顯微鏡的分辨率的限制。尤其是需要低電子束能量時,始終能提供電子束亮度。
電磁透鏡與靜電透鏡的組合等效于一個三片型光學透鏡組。增大了試樣處的入射電子束孔徑角,進而提高分辨率;透鏡控制系統集成有聚焦控制功能,無論工作距離有多長、所選能量多大、二者的組合方式如何,都能隨時選出合理的電子束孔徑,即使分辨率極限下,也能提供出色的圖像襯度。
具有較好的消像差功能,可使電鏡更清晰成像。GEMINI透鏡中集成有一個單級電子束掃描系統,其位于靜電透鏡縫隙的前方,降低了橫向色差及其它掃面色差。